穿透式電子顯微鏡
電子顯微鏡是一種價錢昂貴、體積龐大而且構造複雜的儀器，它利用電子取代了可見光作為照明光源，以電磁透鏡代替玻璃透鏡來偏折電子，必須有強大而穩定的電壓與電流以及極高的真空度方能正常運作，樣品的處理更是要求嚴格，除此之外，精確的校正、妥善的維護保養與專人操作等也都是使用電子顯微鏡必備的條件。當電子照射在樣品上時，若樣品夠薄，電子可能直接穿過樣品而未碰到任何障礙，即所謂穿透電子（transmitted
electron）；若撞擊到樣品上成分原子之原子核，由於電子與原子核二者之質量差別很大，電子會產生相當大角度的偏折或反彈，反彈回來的電子稱為背向散射電子（backscattered
electron）；若撞擊到樣品上成分原子外圍環繞的電子時，除了本身會產生偏折外，也可能將其他電子撞離其原本的電子軌域，此種因撞擊而脫離原子的電子稱為二次電子（secondary
electron）。根據上述電子照射在樣品上的方式以及接收呈像的訊息種類，電子顯微鏡可分為穿透式電子顯微鏡（Transmission
Electron Microscope，TEM）及掃描式電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope，SEM
）等。而穿透式電子顯微鏡是利用穿透電子呈像；掃描式電子顯微鏡則以二次電子或背向散射電子來呈像。
穿透式電子顯微鏡主要由主體（main body）、真空系統（vacuum system）及電路系統（electronic
system）所組成，主體又包含鏡柱（column）及一些控制鍵鈕，其中鏡柱為電子顯微鏡中最重要的部份，由上而下分別為照明系統（illuminating
system）、呈像系統（image forming system）及影像轉換系統（image translating
system）。真空系統則包括真空幫浦（vacuum pump）與冷卻系統（cooling
system）。至於電路系統，除了負責提供電子顯微鏡強大之加速電壓及電流用以加速和偏轉電子外，並控制顯微鏡之操作與校正等。
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