Page 16 - 林口醫研部 9月電子報

質子射束經由射束傳輸系統（BTS）進入第五間實驗室後，因為質子

為帶正電荷粒子，粒子間會因彼此互斥而發散，故須先由四極磁鐵

（Quadrupole magnet）進行XY方向的聚焦。隨之，再利用射束切換磁鐵

(Dipole magnet) 以不同磁場強度，將質子射束引導至選擇我們所需的射

束出口(D1, D2, D3)，如圖5。射束出口規劃為D1方向，設定為寬射束或窄

射束質子出口。而位置於正中間D2出口，則設定為中子射線出口。於此

，我們將鋰靶置入質子射束路徑，使質子與鋰靶作用，因而產生出類高

能中子，因中子走直線，故可由D2出口導出。而與鋰靶未作用的質子射

束，則由Ｄ3方向出口，導引至射束收集器（Beam Dump），量測沒有作

用掉的質子數目，可回推中子的劑量。

在D1射束出口，可依照實驗需求，提供寬射束或窄射束質子。從D1

出口導引出的質子射束，初始為窄的射束，若需要寬的質子射束，本實

驗室使用為雙散射(Double Scatterer)技術，將質子射束在三維空間上的XY

平 面 擴 展 ，在深度方向則是利用射程調控輪(Range Modulate Wheel,

RMW)，將布拉格尖峰拓展(Spread-Out Bragg Peak, SOBP)開來，以增加在

三維空間上深度(Z)方向。

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