盧信沖 ,Ph.D. 
單位: 長庚大學 
現職: 化學工程與材料工程學系 副教授 
聯絡地址: 333桃園市龜山區文化一路259號
電話: 03-2118800 轉 5393
E-mail: hsinchun@mail.cgu.edu.tw
研究領域:
- 奈米金屬氧化物陶瓷粉末及製程
- 透明導電氧化物材料、元件及製程
- 開發替代能源材料、元件及製程
- 開發介電、鐵電及壓電材料、元件與製程之開發
工作經歷: 2007-迄今 經濟部「小型企業創新研發計畫」(民生化工領域) 審查委員
1994-迄今 長庚大學化工與材料工程系(所) 副教授
1992-1993 美國愛荷華州立大學 博士後研究
學歷:
美國愛荷華州立大學 化工博士
國立臺灣大學 化工學士
殊榮:
2003 教育部大學校院產學合作獎教師組(化工類)
代表論文:
1. Hsin-Chun Lu*, Jia-Chiuan Jou, Chun-Lung Chu. Influence of RF magnetron sputtering conditions on the properties of transparent conductive gallium-doped magnesium zinc oxide thin films. Surface & Coatings Technology. Volume 231, Pages 539–542. 25 September 2013.
2. Lu, H.-C.*,Mao, J.-W.,Chiang, Y.-C.. Low temperature preparation of ITO thin by films by the coating solutions containing solvothermally synthesized ITO nanoparticles. Surface and Coating Technology. Volume 231, Pages 526–530. 25 September 2013. (SCI).
3. Hsin-Chun Lu*, Jo-Ling Lu, Chi-You Lai, Gwo-mei Wu, “Fabrication of low-resistive p-type Al-N co-doped zinc oxide thin films by RF reactive magnetron sputtering”,Physica B: Condensed Matter 404, (2009) 4846-4849. (SCI, EI) (*Corresponding author)
4. Chun-Lung Chu, Hsin-Chun Lu*, Chen-Yang Lo , Chi-You Lai, Yu-Hsiang Wang, “Physical properties of copper oxide thin films prepared by dc reactive magnetron sputtering under different oxygen partial pressures”, Physica B: Condensed Matter 404, (2009) 4831-4834. (SCI, EI)(*Corresponding author)
5. Hsin-Chun Lu*, Chun-Lung Chu, Chi-You Lai and Yu-Hsiang Wang, “Property variations of DC reactive magnetron sputtered copper oxide thin films deposited at different oxygen partial pressures”, Thin Solid Films 517,(2009) 4408-4412. (SCI, EI)(*Corresponding author)
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學會與認證: 台灣化工學會永久會員
台灣材料學會永久會員
台灣陶業學會永久會員
目前進行中研究計畫: 2014/08/01—2017/07/31 高能量密度高功率鋰-空氣儲能電池之研發--高能量密度高功率鋰-空氣儲能電池之高鋰離子傳導率陶瓷隔離膜與製程技術研發